在芯片的制造之中，光刻机非常重要，是最为核心的设备之一。
而光刻机的使用，要对应光刻胶的，因为光刻机的光线，要照射在涂了光刻胶的硅晶圆上，通过光刻胶进行感光后，才能在硅晶圆上显示出芯片线路图来。
并且光刻胶是与光刻机一一对应的，不同的工艺，有不同的光刻胶。
整个光刻胶市场，是被日本企业垄断的，数据显示，日本的几大企业，比如TOK、JSR、信越化学、富士胶片等，一直以来，在全球光刻机市场，份额超过75%。
越是高端的光刻胶，份额越高，像EUV光刻胶，更是超过97%。
而过去的这些年，中国一直大量的从日本进口光刻胶，因为我们自己的水平，大多在65nm及以上的工艺水平，满足不了。
也正因为如此，所以这些年，国产光刻胶厂商们，一直在努力的突破，不断的投入资金来研发，以期减少对日本的依赖。
目前国内有好几家厂商，已经搞定了40nm，甚至28nm工艺使用的光刻胶，不需要100%从日本进口了。
近日，《日本经济新闻网》报道称：我们的50%以上的份额正在被中国企业蚕食，未来日本在光刻胶领域，将不再具有垄断地位了。
原因就是随着中国企业的突破，在中低端市场，中国已经从日本进口的非常少了，国内的自给率突破了60%以上，而高端的光刻胶，虽然还在进口，但可以预计的是，随着中国企业的不断突破，未来也一样会减少进口，进行国产替代。
事实上，不只是光刻胶，在整个芯片领域，从EDA到IP，再到半导体设备、半导体材料等，以及成品的芯片，中国都在不断的进行国产替代，提高自给率，减少对外的进口。
光刻胶也只是其中之一，依托国家的资源和基金扶持，中国已经从整个上游的供应到后端制造，进行全产业链的发展，全产业链的自主。
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